AMD/Globalfoundries und FZ Rossendorf untersuchen High-k-Dielektrika

Thomas Jurk, sächsischer Minister für Wirtschaft, Technologie und Verkehr, hat der Dresdner Fab der AMD-Fertigungssparte Globalfoundries gute Nachrichten persönlich überbracht, nämlich eine Zusage über 1,9 Millionen Euro Födermittel. Unter anderem mit diesem Geld will Globalfoundries in Kooperation mit dem Forschungszentrum Dresden-Rossendorf Werkstoffe für High-k-Dielektrika der zweiten Generation untersuchen.

High-k-Metal-Gate-(HKMG-)Transistoren kommen bereits in der Großserienfertigung von Mikroprozessoren zum Einsatz, die Technik ist aber noch sehr jung. Im Rahmen des Projekts KZWEI wollen Globalfoundries und das FZ Rossendorf deshalb neue, alternative Materialien erforschen; Intel setzt beispielsweise auf Hafniumoxid.

Globalfoundries wird als Mitglied der IBM Alliance ab 2011 Zugriff auf die 28-Nanometer-HKMG-Technik von IBM bekommen, hat aber auf dem VLSI-Symposium in Japan kürzlich ein neues HKMG-Verfahren vorgestellt, das bis hinab zur 22-nm-Fertigungstechnik skalieren soll. Dabei geht es um die Einhaltung einer definierten Equivalent Oxide Thickness (EOT) auch bei kleineren Strukturbreiten. (ciw)