Deutsche Erfolgsgeschichte: Chipmaskenhersteller AMTC wird 20

Ursprünglich von AMD, Infineon und DuPont Photomasks gegründet, ist AMTC heute ein wichtiger Hersteller von Lithografiemasken in der Halbleiterfertigung.

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Eine beschriebene Quarz-Platte, die als Maske für die Chipfertigung dient.

(Bild: AMTC)

Von
  • Mark Mantel

Das Advanced Mask Technology Center (AMTC) in Dresden feiert seinen 20. Geburtstag. Es gehört zu den eher unbekannten Helden der Halbleiterwelt und ist auf die Herstellung von Lithografiemasken spezialisiert. Diese Masken benötigen alle Chipfertiger zur Belichtung von Silizium-Wafern.

Ursprünglich gründeten die Partner AMD, Infineon und DuPont Photomasks das Joint-Venture AMTC im Jahr 2002 für damals 360 Millionen Euro, unterstützt durch öffentliche Fördermittel und durch Bankenkredite – das Dresdener Maskenwerk eröffnete knapp 1,5 Jahre später. AMD veräußerte seitdem die eigene Chipfertigungssparte, die in Globalfoundries aufging, die japanische Firma Toppan schluckte DuPont Photomasks und Infineon spaltete Qimonda ab.

Nach einigen hektischen Jahren rund um die Qimonda-Pleite 2009 geht es AMTC heute so gut wie noch nie: Mehr als 330 Angestellte halten das Maskenwerk rund um die Uhr am Laufen. Das Joint-Venture gehört inzwischen ausschließlich Globalfoundries (GF) und Toppan Photomasks.

Einsicht in das Dresdener Maskenwerk von AMTC. Genauso wie in Halbleiterwerken läuft die Herstellung hier in Reinräumen.

(Bild: AMTC)

GF bestellt bei AMTC Chipmasken für die eigenen Fertigungsprozesse bis 12 Nanometer. AMTC produziert allerdings auch Masken für andere Firmen, darunter welche, die sich für die modernsten Prozessgenerationen mit extrem-ultravioletten (EUV-)Wellenlängen eignen. EUV-Technik setzen die drei Chipauftragsfertiger TSMC, Samsung und Intel, aber auch der Speicherhersteller SK Hynix ein.

Fotomasken sind hochreine aufgebaute Quarz-Platten sowohl mit absorbierenden als auch fotoaktiven Schichten, die mit Elektronen- beziehungsweise Laserstrahlschreibern beschrieben werden. Diese Masken enthalten die Blaupausen, mit denen komplexe Lithografiesysteme die Siliziumscheiben belichten. Lichtempfindliche Fotolacke erlauben das Abbilden der gewünschten Chipdesigns – nach zahlreichen Belichtungs- und Ätzschritten entstehen etwa CPUs und GPUs.

Die zur Herstellung der feinsten Strukturen auf den Masken benötigten Elektronenstrahl-Maskenschreiber stammen unter anderem aus Österreich, wo IMS Nanofabrication sitzt – seit 2016 eine Intel-Tochter. Den mikromechanischen TROM2-Chip für diese Multi-Beam-Maskenschreiber hat IMS gemeinsam mit Fraunhofer ISIT in Itzehoe entwickelt, wo ihn die MEMS-Fab auch produziert.

(mma)