Menü

Prägeverfahren für 15-Nanometer-Chips serienreif [Update]

vorlesen Drucken Kommentare lesen 21 Beiträge

In den Labors von Hewlett-Packard, die unter anderem an Molekular- und Nanoröhrchen-Bauelementen tüfteln, wurde auch ein Prägeverfahren zur Nanostrukturierung entwickelt und patentiert. Nun hat HP eine Lizenz für diese Nano-Imprint Lithography (NIL) an ein Startup-Unternehmen namens Nanolithosolutions mit Sitz im kalifornischen Carlsbad vergeben und beteiligt sich auch selbst an der Firma, in der mit dem Uni-Professor Yong Chen auch ein ehemaliger HP-Labs-Mitarbeiter Verantwortung trägt. Nanolithosolutions hat bereits ein Prägewerkzeug fertiggestellt, mit dem sich so genannte "Mask Aligner" – gebräuchliche Geräte der Halbleiter-Lithographietechnik – zur Nanostrukturierung nutzen lassen.

Auch im Osten der USA gibt es eine rege NIL-Entwicklung: Die 1999 vom Uni-Princeton-Professor Stephen Y. Chou gegründete Firma Nanonex offeriert ebenfalls NIL-Systeme. Damit treten bei der NIL in den USA offenbar das California NanoSystems Institute (CNSI) der UCLA sowie das NanoStructures Laboratory (NSL) der Princeton University gegeneinander an, außerdem hat das MIT noch einen "Nanostempel" entwickelt.

[Update:] Das südschwedische Unternehmen Obducat stellt NIL-Systeme für die Massenfertigung her, die offenbar vor allem bei der Oberflächenstrukturierung optischer und magnetischer Speichermedien zum Einsatz kommen. Obducat nennt als mögliche Anwendungsfelder allerdings auch MEMS, OLED-Displays und Halbleitermaterialien, erwähnt bei letzteren aber vor allem die Erzeugung von Strukturen für Chip-Anschlüsse.

Das US-Unternehmen Molecular Imprints fertigt automatische NIL-Systeme, die auch 200- und 300-mm-Wafer verarbeiten können. Laut Molecular Imprints eignen sie sich vor allem für die Herstellung von Entwicklungsmustern und Musterstücke integrierter Schaltungen. (ciw)