Zum Designen und Bearbeiten von speziellen Layouts für die MEMS/IC-Produktion; unter anderem mit integriertem Schrift-Generator und Design-Regel-Checker sowie Unterstützung für boolesche Berechnungen; unterstützt die Formate Calma GDSII, OASIS (Open Artwork System Interchange Standard), DXF, CIF (Caltech Intermediate Form), Gerber, DEF/LEF